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退火爐是用于制造半導體元件的制程方法。該制程包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達到不同的效果??梢约訜峋约せ顡诫s劑,使沉積的膜至密化,并改變生長的膜的狀態。
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