退火爐是用于制造半導體元件的制程方法。該制程包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達到不同的效果?？梢约訜峋约せ顡诫s劑，使沉積的膜至密化，并改變生長的膜的狀態。

串集多腔鍍膜設備是一組真空腔系統，這些真空腔系統通過位于系統中心的傳輸腔相互連接。從基材的清潔、鍍膜與封裝的所有過程都在不破壞真空的環境下連續進行。

等離子干蝕刻是從另一種材料的表面去除材料的過程。該過程是由於于激發離子與材料的碰撞而發生的，無需使用任何液體化學藥品或蝕刻劑即可將其除去。

類鉆碳鍍膜設備是一種無定形納米復合碳材料，具有與天然金剛石相似的特性，包括?低摩擦、高硬度和高耐腐蝕性。正確的涂層可以減少滑動磨損，而類鉆碳 (DLC)鍍膜機可以提供正確的涂層。

熱分析-紅外-氣質聯用系統介紹： 珀金埃爾默提供完善的產品和技術服務，可將不同產品聯合使用，充分利用各個 儀器的優勢，產生協同效應，達到單次試驗獲得多個結果的目的。

紅外成像系統介紹： Spotlight400/400NFT-IR紅外光譜化學成像系統 以高效率享譽業界的實驗室傅里葉變換紅外光譜化學成像系統，在廣泛的行業里顯著地提升了人們對于材料的理解，具有超乎想象的更快、更高效、更靈活的紅外光譜成像能力。

NexION1000GICP-MS三重四級桿型電感耦合等離子體質譜儀介紹：NexION1000G專為挑戰所有基體、挑戰所有干擾、挑戰所有顆粒分析而設計，將三重四極桿的強大能力與單四極桿的靈活性結合。

QSight三重四級桿液相色譜質譜聯用儀介紹： QSightTM三重四極桿液質聯用儀具有層流質譜技術和加熱誘導脫溶劑技術（HSIDTM），性能穩定抗污染，非常適用于基質復雜的農藥殘留、獸藥殘留和生物毒素樣品的檢測。